Китай смог добиться промышленной безопасности в производстве микросхем
Дочерняя компания Китайской корпорации электронных технологий разработала ионные имплантеры, которые необходимы при производстве чипов по 28-нанометровому технопроцессу.
Разработчики отмечают, что ионный имплантер представляет собой один из ключевых видов оборудования для выпуска чипов. В этом процессе ионная имплантация, то есть введение посторонних атомов в полупроводниковые монокристаллы при ионной бомбардировке его поверхности, используется для создания требуемой примесной электропроводности полупроводника.
При этом дочерняя компания CETC добилась прорывов в освоении ключевых технологий. Она разработала семейство ионных имплантеров, начиная от имплантеров среднего тока, высокого тока и высокой энергии, до имплантеров для полупроводников третьего поколения, которые могут охватывать 28-нанометровый производственный процесс.
По мнению экспертов, теперь Китай может гарантировать промышленную безопасность в сфере отечественного производства микросхем, пишет газета «Жэньминь жибао он-лайн».
Ранее сообщалось, что в Китае решили повысить качество финансовых услуг, чтобы способствовать подъему села.
